镍磷合金（镀镍）产品出来后怎样提升硬度且保证工件颜色不变？
化学镀镍磷适用于铁件、钢件、锌合金、浸锌处理后的铝合金及铜合金表面镀镍磷合金层。无毒、无重金属、环保。不需电镀设备。只需恒温装置，镀层是光亮的镍磷合金层，耐蚀性极好，结合力。镀液稳定性强，寿命超过12个周期。广泛应用于各种金属、非金属表面化学镀镍磷。
化学镀镍加工 化学镀镍加工方法
化学镀镍加工 化学镀镍加工方法
化学镀镍磷基合金镀层，能获得均匀、致密、光亮的镍磷合金镀层，有金属光泽。因其硬度高、厚度均匀及耐磨性优异,在工业中得到了广泛应用。适用于金属表面镀镍（如：铁，不锈钢，铝，铜等等），同样适用于非金属表面镀镍，且不需要昂贵的沉钯，成本低。比如：陶瓷镀镍，玻璃镀镍，金刚石镀镍，碳片镀镍，塑料镀镍，树脂镀镍，等等。槽液维护简单。成本低，不需要电镀设备[1]。
特点可以保护铜不被氧化；
1、耐腐蚀性强：该工艺处理后的金属表面为非晶态镀层，抗腐蚀性特别优良，经硫酸、盐酸、烧碱、盐水同比试验，其腐蚀速率低于1cr18ni9ti不锈钢。
2、耐磨性好：由于催SKD61化学成分如下图：化处理后的表面为非晶态，即处于基本平面状态，有自润滑性。因此，磨擦系数小，非粘着性好，耐磨性能高，在润滑情况下，可替代硬铬使用。
3、光泽度高：催化后的镀件表面光泽度为lz或▽8-10可与不锈钢制品媲美，呈白亮不锈钢颜色。工件镀膜后，表面光洁度不受影响，无需再加工和抛光
1、工件前处理:前处理对镀层质量至关重要,要使镀前的工件表面无污染，并且是处于活化状态，此过程主要有：除油，除锈，抛光，水洗。
3、用热的去离子水冲洗工件，使工件升温，以避免下一步施镀时，冷工件吸收镀液热量而降温，导致停镀。
4、按照0.5-1.5dm2/升的装载比分散地吊挂在镀液中，控制镀液温度在意85-92摄氏度。
5、施镀过程中要有适度的轻搅拌，使温度及镀液分布均匀，从而保证化学镀镍的稳定进行，和镀层的一致性。同时，要对镀液进行循环过滤。滤网：孔径1-8微米，耐100摄氏度，耐酸。
化学镀镍磷的维护
1、在施镀过程中，由于成分的不断消耗，镀速会有所减慢
化学镀的原理
目前提高太阳能电池效率的主要措施如下，而3Mn(H2PO4)2各项措施的采用往往出相应的新的工艺技术。化学镀与磷化的原理？
4真空镀的镀层较薄，化学镀的镀层可以镀得较厚（如化学镀镍）。化学镀镍
芯片的厚度也愈来愈薄，从→300→ 270→ 240 →210 →180 um，目前晶体硅片主要使用厚度为210—240um。特点
性能
用途：
1、
厚度均匀性
厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍的一大特点，也是应用广泛的原因之一，化学镀镍避
免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀。化学镀时，只要零件表面和镀液接触，镀液中消
耗的成份能及时得到补充，镀件部位的镀层厚度都基本相同，即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。
2、
镀件不会渗氢，没有氢脆，化学镀镍后不需要除氢。
3、
很多材料和零部件的功能如耐蚀、抗高温氧化性等比电镀镍好。
4、
可沉积在各种材料的表面上，例如：钢镍基合金、锌基合金、铝合金、玻璃、陶瓷、塑料、半导体等材
料的表面上，从而为提高这些材料的性能创造了条件。
5、
不需要一般电镀所需的直流电机或控制设备。
6、
热处理温度低，只要在400℃以下经不同保温时间后，可得到不同的耐蚀性和耐磨性，因此，特别适用
于形状复杂，表面要求耐磨和耐蚀的零部件的功能性镀层等
原理：
在酸性环境：
Ni2++H2PO2+H20—Ni+H2P03-+2H+
在碱性环境：
[NiXn]2++H2PO3-+30H一一Ni+HP032-+nX+2H20
磷的析出反应如下:
H2PO2-+2H+一P+2H2O
2H2PO2-—P+HPO32-+H++H2O
H2PO2-+4H+H+一PH3+2H2O
磷化工艺稳定易于控制，成本低。其目的主要是：给基体金属提供保护，在一定程度上防止金属被腐蚀；用于涂漆前打底，提高漆膜层的附着力与防腐蚀能力；在金属冷加工工艺中起减摩润滑使用。
磷化就是：工件（钢铁或铝、锌件）浸入磷化液（某些酸式为主的溶液），在表面沉积形成一层不溶于水的结晶型转换膜的过程，称之为磷化。
其原理为：
钢铁件浸入磷化液（由Fe(H2PO4)2、
Mn(H2PO4)2、
Zn(H2PO4)2
组成的酸性稀水溶液，PH值为1-3，溶液相对密度为1.05-1.10）中，磷化膜的生成反应如下：
3Zn(H2PO4)2
=Zn3(PO4)2↓+4H3PO4
或吸热
=Mn3(PO4)2↓+4H3PO4
钢铁工件是钢铁合金，在磷酸作用下，Fe和FeC3形成无数原电池，在阳极区，铁开始熔解为Fe2+，同时放出电子。
Fe+2H3PO4=
Fe
(H2PO4)2+H2↑
Fe
=Fe2+
+2e-
在钢铁工件表面附近的溶液中Fe2+不断增加，当Fe2+与HPO42-，PO43-浓度大于的溶度积时，产生沉淀，在工件表面形成磷化膜：
Fe(H2PO4)2=
FeHPO4↓+
H3PO4
Fe+
Fe(H2PO4)2
=2FeHPO4↓+
H2↑
Fe
3(PO4)2↓+
H3PO4
Fe+
2FeHPO4
=Fe
3(PO4)2↓+H2↑
阴极区放出大量的氢：
2H+
+2e-
=H2↑
O2
+2H20
=4e-
+4OH-
总反应式：
3Zn(H2PO4)2=
Zn3(PO4)2↓+4H3PO4
Fe+3Zn(H2PO4)2=
Zn3(PO4)2↓+FeHPO4↓+3
H3PO4+
H2↑
放热
如果是化学镀镍的话
使用液体镀镍的成本与磷化成本不了多少
但如果是电镀的话
成本就高了
从价格角度讲：镀镍，磷化其次
从抗腐蚀性角度讲：镀镍，磷化
其次
比较乱
你稍微整合下好了
希望可以给你一点小帮助~O(∩_∩)O~
什么工艺能代替电镀
（2）化学镀镍层不仅硬度高，还可以通过热处理调整再行提高，故耐磨性良好。所以，在某些工况下甚至可以代替硬铬使用，更难得的是化学镀镍层兼备了良好的耐蚀和耐磨性能；我公司德奈米克科技有限公司成功研制出新型环保喷镀－“纳米镜面喷镀”技术，填补了目前国内市场环保电镀的空白。
SKD61是一种含硅、铬、钼、钒的中等合金热作模具钢经淬火、回火处理后得到组织细、晶粒适中的马氏体组织,基本上分布着细小的炭化物,具有良好的综合力学性能,而且淬透性能好,比较适合制造尺寸大、形状复杂的模具。适用于热作，铝、镁、锌、铜合金压铸模，切槽刀，剪刀及热锻动作，塑胶型模，热作铰刀，轧刀，一般热作锻模，热螺栓模，热间各种工具等。纳米镜面喷镀技术采用喷涂的工艺做出电镀效果（镀金、镀银、镀铜、镀铬、镀镍、彩镀等），是继电镀、真空镀之后的又一项新兴工艺，只需用喷枪直接喷涂，工艺简单而且环保、无三废排放、成本低、不用做导电层。这种技术广泛适用于金属、玻璃、树脂、塑料、陶瓷、石膏等各种材料。
无三废排放、不含重金属、且作简便，投资少，成本低，无需做导电层，加工颜色随心所欲，可定位喷涂。
可以达到电镀精饰效果
电话01063856211
杨文月
代替电镀，高，喷镀工艺，新型行业，环保健康，能完全替代电镀行业，达到光面镜面效果的金属光泽！
检测压铸工件表面是否干净有什么方法？
检测零件表面是否干净的方法常规的方法是采用目视法或者滴液法，如果对于测量结果要求比较严格的话可使用荧光法量化检测仪器，例如SITA表面清洁度仪，可以接触或非接触式无损2、酸洗活化：用酸表1 世界太阳能电池发展的主要洗活化剂浸泡工件2-3分钟，再水洗干净。测试零件表面是否干净。
冷镦模具材料为什么选用SKD61
SKD61是属于日标热作模具钢材料，国内H13.
SKD61属于日标热作模具钢，执行标准：JIS G4404-2006
冷镦模具材料因为需要韧性好，所以选用SKD61。
SKD61模具钢韧性好，冷镦模具化学镀，也可称为自催化镀或无电极镀，是利用自催化的原理在基体表面沉积合金的新型表面处理工艺，和传统需使用外部电源的电镀不同。化学镀适用于各种基体，如金属、金属半导体及各种非金属(树脂、金刚石)等；化学镀层均匀，不受尺寸大小、形状的限制影响，并且可得到均匀的镀层；化学镀层结合力优良且具有很好的化学、力学和磁性性能(如:致密而高硬度等),由于化学镀有一定谢优于电镀的特性，并且有些问题只能用化学镀解决。广州贻顺化工致力于化学镀方面，有非常要好的技术支持，主导“环保贻顺，绿色家园”的宗旨。用SKD61 不会开裂，
SKD日本提出“新阳光”61模具钢材对应我国的牌号(GB/T 1299-2000)是4Cr5MoSi V1，
其合金元素的总质量分数大于10%，由于淬火硬度高，淬透性好，淬火变形小等特点，适用于制造精密、耐磨性好的模具。
SKD61模具钢材是应用最广的热作模具钢，具有良好的韧性与抗高温疲劳SKD61性能能承受温度聚变，适宜在高温下长期工作具有良好的切削性能和抛光性能。
制作冷镦模可以使用ER5钢，ER5钢在强度、韧性、耐磨性等方面均优于Crl2型钢，而且在锻造、热处理、机加工、电加工等方面无特殊要求，生产加工工艺简单可行，材料成本适中，适用于制作大型重载冷镦模、精密冷冲模以及其它冷冲、冷成型模具。
冷镦模具选钨钢材料
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（5） 周边刻蚀：扩散时在硅片周边表面形成的扩散层，会使电池上下电极短路，用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层。太阳能电池的结构工作原理和制造技术
近几年来，受世界太阳能电池发展“热潮”的影响，我国太阳能电池产业发展空前高涨，本文收集了太阳能电池的一些有关技术，以供读者参考。
（一）太阳能电池的发展历史：
太阳能电池是产生光生伏打效应（简称光伏效应）的半导体器件。因此，太阳能电池又称为光伏电池，太阳能电池产业又称为光伏产业。
1954年世界块实用化太阳能电池在美国贝尔实验室问世，幷首先应用于空间技术。当时太阳能电池的转换效率为8％。1973年世界爆发石油危机，从此之后，人们普遍对于太阳能电池关注，近10几年来，随着世界能源短缺和环境污染等问题日趋，太阳能电池的清洁性、安全性、长寿命，免维护以及资源可再生性等优点更加显现。一些发达制定了一系列鼓舞光伏发电的优惠政策，幷实施庞大的光伏工程，为太阳能电池产业创造了良好的发展机遇和巨大的市场空间，太阳能电池产业进入了高速发展时期，幷带动了上游多晶硅材料业和下游太阳能电池设备业的发展。在1997－2006年的10年中，世界光伏产业扩大了20倍，今后10年世界光伏产业仍以每年30％以上的增长速度发展。
世界太阳能电池的发展历史如表1所示：
年份 重要
1954 美国贝尔实验室发明单晶硅太阳能电池，效率为6％
1955 个光伏航标灯问世，美国RCA发明Ga As太阳能电池
1959 个单晶硅太阳能电池问世。
1960 太阳能电池首次实现并网运行。
1974 突破反射绒面技术，硅太阳能电池效率达到18％。
1975 非晶硅及带硅太阳能电池问世
1978 美国建成100KW光伏电站
1980 单晶硅太阳能电池效率达到20％，多晶硅为14.5％，Ga As为22.5％
1986 美国建成6.5KW光伏电站
1990 德国提出“2000光伏屋顶”
1995 高效聚光Ga As太阳能电池问世，效率达32％。
1997 美国提出“百万太阳能屋顶
2000 世界太阳能电池总产量达287MW，欧洲2010年生产60亿瓦光伏电池。
（二）、太阳能电池的种类
（三）、硅太阳能电池的结构及工作原理
硅太阳能电池的外形及基本结构如图1。基本材料为P型单晶硅，厚度为0.3—0.5mm左右。上表面为N+型区，构成一个PN＋结。顶区表面有栅状金属电极，硅片背面为金属底电极。上下电极分别与N＋区和P区形成欧姆接触，整个上表面还均匀覆盖着减反射膜。
当入发射光照在电池表面时，光子穿过减反射膜进入硅中，能量大于硅禁带宽度的光子在N+区，PN＋结空间电荷区和P区中激发出光生电子——空穴对。各区中的光生载流子如果在复合前能越过耗尽区，就对发光电压作出贡献。光生电子留于N＋区，光生空穴留于P区，在PN＋结的两侧形成正负电荷的积累，产生光生电压，此为光生伏打效应。当光伏电池两端接一负载后，光电池就从P区经负载流至N＋区，负载中就有功率输出。
太阳能电池各区对不同波长光的敏感型是不同的。靠近顶区湿产生阳光电流对短波长的紫光（或紫外光）敏感，约占总光源电流的5－10％（随N＋区厚度而变），PN＋结空间电荷的光生电流对可见光敏感，约占5 ％左右。电池基体区域产生的光电流对光敏感，占80－90％，是光生电流的主要组成部分。
晶体硅太阳能电池的制造工艺流程如图2。提高太阳能电池的转换效率和降低成本是太阳能电池技术发展的主流。
1、 具体的制造工艺技术说明如下：
（1） 切片：采用多线切割，将硅棒切割成正方形的硅片。
（2） 清洗：用常规的硅片清洗方法清洗，然后用酸（或碱）溶液将硅片表面切割损伤层除去30－50um。
（4） 磷扩散：采用涂布源（或液态源，或固态氮化磷片状源）进行扩散，制成PN＋结，结深一般为0.3－0.5um。
（6） 去除背面PN＋结。常用湿法腐蚀或磨片法除去背面PN＋结。
（7） 制作上下电极：用真空蒸镀、化学镀镍或铝浆印刷烧结等工艺。先制作下电极，然后制作上电极。铝浆印刷是大量采用的工艺方法。
（8） 制作减反射膜：为了减少入反射损失，要在硅片表面上覆盖一层减反射膜。制作减反射膜的材料有MgF2 ，SiO2 ，Al2O3 ，SiO ，Si3N4 ，TiO2 ，Ta2O5等。工艺方法可用真空镀膜法、离子镀膜法，溅射法、印刷法、PECVD法或喷涂法等。
（9） 烧结：将电池芯片烧结于镍或铜的底板上。
（10）测试分档：按规定参数规范，测试分类。
由此可见，太阳能电池芯片的制造采用的工艺方法与半导体器件基本相同，生产的工艺设备也基本相同，但工艺加工精度远低于集成电路芯片的制造要求，这为太阳能电池的规模生产提供了有利条件。
（五）、太阳能电池的芯片尺寸：
规模化生产太阳能电池的芯片尺寸分别为（103×103）mm2、（125×125）mm2、（156×156） mm2和（210×210）mm2的方片。目前的主流仍是（156×156）mm2，2007年将过渡到（210×210）mm2为主流芯片。最近德国已推出了代表的（210×210）mm2硅片全自动生产设备。
（六）、太阳能电池的芯片材料及转换效率：
1、 晶体硅（单晶硅和多晶硅）太阳能电池：
2004年晶体硅太阳能电池占总量的84.6 ％，生产技术成熟，是光伏产业的主导产品。在光伏产业中占据着统治地位。
对于高效单晶硅太阳能电池，公认澳大利亚新南威尔士大学达到了转换效率为24.7％，目前世界技术先进产品转换效率为19－20 ％。对于多晶硅太阳能电池澳大利亚新南威尔士大学多晶硅电池效率已突破19.8％，技术先进产品的效率为15－18 ％。
α－Si（非晶硅）太阳能电池一般采用高频辉光使硅烷分解沉积而成。由于分解温度低（－500 0C），可在薄玻璃、陶瓷、不锈钢和塑料底片上沉积1um厚的薄膜，且易于大面积化。非晶硅太阳能电池多数采用PIN结构，有时还制成多层叠层式结构。
非晶硅太阳能电池大量生产的大面积产品的转换效率为10－12 ％，小面积产品转换效率已提高到14.6％，叠层结构电池的效率为21 ％。
3、 （GaAs）太阳能电池：
GaAs太阳能电池多数采用液相外延法或MOCVD技术制备，GaAs太阳能电池的效率可高达29.5％，一般在19.5％左右。产品具有耐高温和抗辐射特点，但生产成本较高，产量受限，主要用作空间电源。以硅片为衬底，拥MOCVD方法制造GaAs /Si异质结太阳能电池是降低成本很有希望的方法，效率23.3 ％，GaAs 叠层结构的太阳能电池效率接近40 ％。
4、 其他化合物半导体太阳能电池：
这方面主要有CIS （铜铟硒）薄膜、CdTe ()薄膜和InP(磷化铟) 太阳能电池等。这些太阳能电池的结构与非晶硅电池相似。但CIS薄膜一般厚度为2－3um，已达到的转换效率为17.7 ％。CdTe薄膜很适合于制作太阳能电池。其理论转换效率达30 ％，目前先进水平转换效率为15.8 ％，多用于空间方面。2004年世界各种太阳能电池产量的种类分布如表2
表2 2004年世界各种太阳能电池产量的种类分布
序号 太阳能电池种类 总产量（MW） 百分比（ ％ ）
1 单晶硅平板电池 314.4 28.6
2 多晶硅平板电池 669.2 56.0
3 非晶硅（室内室外） 47.1 3.9
4 带硅电池 41..0 3.4
5 CdTea（）电池 13.0 1.1
6 CIS 吸热(铜铟硒) 3.0 0.25
7 非晶硅/单晶硅电池 80.0 6.7
总量 1195.2 100
（七）、提高太阳能电池效率的特殊技术：
晶体硅太阳能电池的理论效率为25％（AMO1.0光谱条件下）。太阳能电池的理论效率与入射光能转变成电流之前的各种可能损耗的因素有关。其中，有些因素由太阳能电池的基本物理决定的，有些则与材料和工艺相关。从提高太阳能电池效率的原理上讲，应从以下几方面着手：
1、 减少太阳能电池薄膜光反射的损失
2、 降低PN结的正向电池（俗称太阳能电池暗电流）
3、 PN结的空间电荷区宽度减少，幷减少空间电荷区的复合中心。
4、 提高硅晶体中少数载流子寿命，即减少重金属杂质含量和其他可作为复合中心的杂质，晶体结构缺陷等。
5、 当采取太阳能电池硅晶体各区厚度和其他结构参数。
（1） 选择长载流子寿命的高性能衬底硅晶体。
（2） 太阳能电池芯片表面制造绒面或倒金字塔多坑表面结构。电池芯片背面制作背面镜，以降低表面反射和构成良好的隔光机制。
（3） 合理设计发射结结构，以收集尽可能多的光生载流子。
（4） 采用高性能表面钝化膜，以降低表面复合速率。
（5） 采用深结结构，幷在金属接触处加强钝化。
（6） 合理的电极接触设计以达到低串联电阻等。
（八）、太阳能电池的产业链
（九）、上海太阳能电池产业概况：
上海对于光电转换器件的研究起步于1959年。当时在中科院技术物理研究所和上海科技大学等单位作为光电探测器件课题进行研究。上世纪八十年代，上海仪表局所属的上海半导体器件八厂等单位生产小功率的兰硅光电池在市场上销售。八十年代后期，受世界太阳能电池产业迅速发展的影响，上海开始建立专业的太阳能电池芯片生产企业和专业的研究机构。近10年多来，随着我国太阳能电池“热潮”的到来，制造太阳能电池组件的企业纷纷建立，而且随着单晶硅和多晶硅材料供应紧张，许多小型的硅单晶企业也蜂涌而至。从上世纪九十年代以来，上海的太阳能电池产业逐步形成规模。
目前，上海地区从事太阳能电池芯片、组件、硅材料和设备生产和技术研究的单位共20余个。
其中，太阳能电池芯片制造的主要企业有上海太阳能科技有限公司、上海泰阳公司等。2006年中芯（上海）公司Fab 10建成投产，利用8英寸硅单晶硅片制造太阳能电池芯片，开创了上海利用8英寸多晶硅片制造太阳能电池的新范例。目前，上海太阳能电池芯片的产量在30－40MW左右。上海太阳能电池组件的生产企业共有10个左右。主要企业仍有上海太阳能科技有限公司和上海泰阳公司（与上海交通大学合作）等。目前上海太阳能电池组件的产量为50－70 MW左右。由于太阳能电池组件生产技术及设备要求较为简单，因此，太阳能电池组件生产企业中，有多家为民营企业。由于国内太阳能电池芯片供应不足，这些企业往往采用进口芯片组装后绝大部分返销境外，仅少数投放国内市场。
近几年来，由于可提供太阳能电池芯片生产的硅单晶片和硅多晶硅片短缺，价格不断大幅度上升，例如2003年进口电子级多晶硅每公斤为22－25美元，而2006年进口同样多晶硅的价格上升200％至300％，有些经销商转手倒卖时，价格甚至抬高5至8倍。在这种情况下，许多中小型的硅单晶生产企业蜂涌而至。从上世纪九十年代以来，在上海及周边地区建立中小型太阳能电池硅单晶（或硅多晶）的生产企业达4至5个之多。上海通用硅有限公司和上海卡姆丹克公司（合资企业）是其中有代表性的企业。它们各具有许多直拉单晶炉，可以拉制5.5〃，6〃，6.5〃和8〃直径的硅单晶，形成了可供年产25——30MW太阳能电池芯片的市场。但是由于多晶硅原材料供应不足，这些企业拉制的硅单晶原材料只能供给生产20MW太阳能电池芯片所用。因此，硅材料缺乏已成为抑制上海（乃至全国）太阳能电池产业封装的瓶颈。因此，通过上海与外省市的合作发展多晶硅产业已是涉及到微电子产业和太阳能电池产业的战略问题。
（十）中芯（上海）的经验：
中芯（上海）为国内集成电路（或半导体器件）芯片制造企业开展太阳能电池芯片或组件生产走出了一条成功之路，从中芯（上海）Fab10投产的实践来看，证明了以下事实，即集成电路（或半导体器件）芯片制造企业太阳能电池芯片具有许多有利条件：
● 废旧硅圆片可充分利用，有利于降造成本；
● 生产线设备基本上可用进口设备或国产设备节省投资；
● 太阳能电池芯片制造若延伸至组件制造，更有利于企业获得较好效益。
但由于集成电路（或半导体器件）芯片制造企业的可利用的单晶硅片数量有限，因此当太阳能电池芯片生产规模扩大时必须考虑其他晶体硅的来源
真空电镀（镀膜）与传统（化学）电镀比较
两相比较1998 单晶硅太阳能电池效率达到24.7％，荷兰提出“百万光伏屋顶”如下：
1真空2、兰溪市贝斯特铝制品有限公司镀，是干法镀，不像化学镀是湿镀，化学镀会产生较多污染物.
2真空镀工艺简单，无论金属或非金属都能镀，化学镀只适合部分非金属和大部分金属。
3真空镀既适用于装饰性产品，也适用于工能性镀。化学镀主要适用于工能性。
5真空镀设备简单，化学镀设备复杂。
6真空镀较适宜大批量加工，化学镀可适宜大批量和小批量生产。
7投资成本，弹性较大。如果按清洁生产要求，真空镀投资较小，也容易上马；化学镀投资较大，不容易上马（污染受控制，不易审批）。
8生产成本，真空镀低；化学镀稍高。
纠正：应是真空镀，不是真空电镀。
铝阳极氧化厂家
1、无锡市苏泰金属制品有限公司
主营产品：化学镀镍，本色阳极氧化，氧化着色。
地址：无锡市锡山区锡北镇劲1958 太阳能电池首次装备于美国先锋1号卫星，转换效率为8％。丰村。
主营产品：铝制品，五金加工，铝合金表面处理。
3、余润（2）通过敏化、活化等前处理，化学镀可以在非金属（非导体）如塑料、玻璃、陶瓷及半导体材料表面上进行，而电镀法只能在导体表面上施镀，所以化学镀工艺是非金属表面金属化的常用方法，也是非导体材料电镀前做导电层的方法；（上海）能源科技有限公司
主营产品：铝型材挤压、铝材喷砂、铝型材CNC加工、硬质氧化、铝材表面处理。
地址：上海市青浦区华新镇马阳村128号。
4、苏州市信诚旺铝材厂
主营产品：铝；铝型材；铝合金；铝合金型材阳极氧化；着色；工业型材；挤压模具。
地址：苏州市相城区太平街道黎明村工业小区。
5、惠州市惠城区杰丰发铝件加工部
主营产品：铝阳极高光亮氧化、；铝阳极氧化着色；铝质硬膜氧化；化学抛光；喷砂；拉丝。
地址：广东惠州市惠城区惠环。